PVD工艺关于薄膜均匀性的概念：

　　

　　1。厚度均匀性也可以是粗糙的。在光学膜标准中，波长单位为1/10，约100A。真空涂层的均匀性非常好，并且可以容易地降低粗糙度。 控制程度在可见光波长的1/10范围内，这意味着对于薄膜的光学特性，真空镀膜没有障碍。但是，如果指原子层标准上的均匀性，也就是说要达到10A甚至1A的外观平整度，这是此时真空镀膜的主要技能内容和技能瓶颈。详细的控制因素将根据不同的镀膜给出。

　　

　　2.化学组成的均质性：也就是说，在膜中，由于标准太小，化合物的原子组成将容易出现不均匀的特性。对于SiTiO3薄膜，如果涂覆工艺不科学，则组件的实际外观不是SiTiO3，而是其他比例。镀膜不是所需膜的化学特性。这也是真空镀膜的技能含量地址。

　　

　　3。晶格顺序的对称性：此选择确定薄膜是否为单晶，中岳钛金，多晶，非晶，这是真空镀膜技术中的热门问题。

　　

　　主要有两类：蒸发沉积和溅射沉积涂层，包括许多详细类型，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等。

　　

　　一、处理蒸发涂层：通常，将目标加热以使外观成分以原子团或离子的形式蒸发，并沉积在基材的外观上。通过成膜过程，分散点-岛屿布局-迷宫布局-层发展。

　　

　　

　　厚度匀称性主要取决于：

　　

　　1、基片质料与靶材的晶格匹配水平

　　

　　2、基片外貌温度

　　

　　3、蒸发功率，速率

　　

　　4、真空度

　　

　　5、镀膜时间，厚度巨细。

　　

　　组分匀称性： 蒸发镀膜组分匀称性不是很容易担保，详细可以调控的因素同上，可是由于道理所限，对付非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分匀称性欠好。

　　

　　晶向匀称性：

　　

　　1、晶格匹配度

　　

　　2、基片温度

　　

　　3、蒸发速率

　　

　　二、对于基于溅射的镀膜，您可以简单地理解电子或高能激光轰击目标的操作，并使外观成分以原子团或离子的形式溅射出来，最后沉积在基材上出现。体验成膜过程， 最后形成薄膜。

　　

　　溅射镀膜分为许多类型。一般而言，与蒸发镀膜的区别在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜易于保持组成的均匀性，并且原子标准厚度的均匀性相对较差，因为它是脉冲溅射，并且晶体沿外边缘的生长控制也很差比较普通。

　　

　　以pld为例，这些因素主要包括：靶与基板的晶格匹配程度，涂覆气氛，低压气体气氛，基板温度，激光功率，脉冲频率和溅射时间。

　　

　　对于不同的溅射材料和基板，需要确定最佳参数。他们没有沟通。涂覆设备的优缺点主要取决于是否可以精确控制温度，是否可以保证良好的真空度以及是否可以保证良好的真空腔室清洁度。