厂家在采购PVD真空镀膜机时，PVD真空镀膜机的相关知识，如镀膜技术工艺步骤、原理、保养维护方法，机器的运行注意事项等等，今天小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。

PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤，分为以下四个步骤：
        （1）清洗工件：接通直流电源，氩气进行辉光放电为氩离子，氩离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出； 
        （2） 镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。 
        （3）镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件； 
        （4）镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
 
         如果是镀离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。
 
         PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的 PVD 镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；通常说的 NCVM 镀膜，就是指真空蒸发镀膜。PVD真空镀膜机镀膜工艺原理分为以下三种情况： 
      （1）真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是 PVD 法中使用最早的技术。 
      （2）溅射镀膜基本原理：充氩（Ar）气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩（Ar）原子电离成氩离子（Ar），氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在 l0 -2 Pa～10Pa 范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。 
      （3）离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。