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在加热、真空和溅射镀膜机等工艺后清洗玻璃涂层前造成的针孔二次污染,使玻璃再次受到污染,使涂层后的玻璃出现针孔。玻璃加热过程中的再污染是加热室或溅射室不干净,而对玻璃的再污染,这些污染源主要来自扩散泵回油、加热室或溅射室脏、靶玻璃溅射靶灰、残余气体压力高。因为固体物质的平均单位表面积大约有10个分子,在恒定的Pa压力下,每秒撞击表面的分子数与覆盖物质整个表面积的分子数大致相同。在剩余气体压力为10的情况下,如果薄膜以每秒一层原子的速度形成,则剩余气体的原子和分子的蒸发击中基底的概率几乎相同。在溅射过程中,压力为10 ~ 10时形成的薄膜速度与蒸发条件下基本相同。
残余气体的存在不仅影响膜的纯度和质量,而且还会产生针孔。因此,在生产中应选用高纯氩气作为工作气体,并严格控制真空室的泄漏率,以减少残余气体对原膜和膜层的污染。残余气体的压力控制在10Pa以下,加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境应经常清洗,以减少扩散泵油返回玻璃的污染。同时,适当增加阴极的溅射功率,增加粒子的动能和扩散能力,有利于去除镀膜玻璃表面的残留物质,减少镀膜玻璃的针孔。镀膜玻璃膜的膜厚均匀性一般来说,同一基片上的膜厚不同,称为膜层不均匀。镀膜玻璃涂层不均匀的原因有很多。磁控溅射的关键参数之一是垂直于电场的水平磁场强度B,因为水平磁场强度B要求在阴极靶表面呈均匀值。在实际的生产过程中,价值随着方法的使用和时间的推移而变化,出现不均匀现象。这可以通过溅射阴极靶刻蚀区的变化来验证。
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