PVD镀膜最初并不是在刀具领域首次使用，而在刀具领域的成功应用却引起了各大制造业的高度重视，人们纷纷开始研发高性能且稳定可靠性强的涂层设备的同时，也在制造业领域上加深对涂层应用的研究，而通过PVD镀膜技术制备出的材料同时具备高硬度、低摩擦系数和化学稳定性强等优点。

首先，来跟着认识一下什么是PVD技术？

我们所知PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，它的#pvd镀膜材料#中文意思是“物理气相沉积”，它是指在真空条件下，通用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

PVD(物理气相沉积)技术又为三大类，分别是真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。

PVD镀膜技术它的原理呢，是在真空条件下，通过大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

先给大家介绍一下磁控溅射镀膜的工艺，磁控溅射镀膜它是在靶材与真空室壁之间先增加电场，使其氩气电离，并且使氩离子加速撞击靶材表面。靶材被亚离子撞击，而靶材原子则溢出并且以数十甚至上百电子伏特的动能飞向被镀基片表面并沉积在基底表面，原子动能则较蒸发高出两个数量级，它的填充密度高达98%，折射率较高且相对稳定。

PVD镀膜与传统化学电镀相比唯一的相同点是，都是通过一定的方式将一种材料覆盖在另一种材料的表面。但两者也有不同点，PVD膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多，而且不会产生有毒或有污染的物质。

据所知，溅射镀膜工艺上具有可重复性、镀膜厚度可控等特点，这一特点体现在大面积的基板材料上，我们可根据所需要的厚度制作出理想的材料，制备出的薄膜也具有纯度高、致密性好、与材料结合力强等优点。蒸发镀膜从制造工艺方面来看，蒸镀材料的制造复杂度要比溅射靶材低一些，蒸发镀膜它的优点在于工艺简单便利、操作方便、成膜速度快等。

PVD真空镀膜在塑料行业上也有着广泛的使用，因为塑料具有容易成型的特点，所以他的成本很低，质量也很轻，且具有耐腐蚀等特点，通过PVD真空镀膜可以使塑料的表面具有导电的性能，而且PVD涂层也能够减少它的吸水率，等镀膜完成后，针孔也会随着减少，吸水率也会降低，经过镀膜的材料表面的金属光泽被彩色化，装饰性能也具有很大的提升。