1、检查真空镀膜设备的操作控制开关是否处于“关闭”位置。 2、打开主电源开关，给真空镀膜设备上电。 3.拉出低压阀。打开充液阀。当听不到气流声时，启动钟罩阀，钟罩升起。 4.安装固定钨丝螺旋加热器。将PVDF薄膜和铝盖板固定在旋转盘上。将铝线穿入螺旋加热器。 清洁钟罩内的所有零件，确保没有杂质和污垢。 5.放下钟罩。 6、启动真空镀膜设备的真空机械泵。 7、打开复合真空计电源（复合真空计型号：fzh-1a）。 8、当低真空表“2”中的指针再次顺时针移动到6.7pa时，低压阀被推入。 9、开启真空镀膜设备冷却水，启动扩散泵，加热40min。 10.拉出低压阀。对立式单门涂布机重复⑦动作程序一次：将左下旋钮“1”旋至指向第2段的测量位置。 低真空计“2”中的指针顺时针移动。当指针移动到6.7pa时，打开高压阀。 PVD镀膜分为真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空蒸发镀膜三大类。 

PVD镀膜所用设备：通常称为PVD真空镀膜设备或PVD真空镀膜机 PVD镀膜原理：在真空环境下，采用低压大电流的电弧放电技术，采用蒸发源加热或加热 辉光放电和离子轰击用于将镀层材料沉积在待镀产品的表面。 PVD镀膜：可镀各种单金属膜（金、银、铝、锌、钛等）和氧化膜 （TiO等）、碳化物薄膜（TIC、TiCN等）、氮化物薄膜（锡、CrN、TiAIN等），薄膜颜色可以单一 也可以镀七种颜色。薄膜厚度为微米，真空镀膜厚度较薄。涂膜几乎不影响产品尺寸 。 真空溅射镀膜： 辉光放电是溅射技术的基础。溅射一般在辉光放电过程中产生。溅射使用粒子或具有高动能的粒子 离子束轰击固体表面，使靠近固体表面的原子获得入射粒子携带的部分能量，离开固体进入真实状态 空产品。 影响溅射效果的因素：1靶材；2.轰击离子的质量；3、轰击离子的能量；4.被轰击原子的入射角。