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PVD真空镀膜是什么

时间：2023-07-20 点击数：

PVD真空镀膜是一种物理气相沉积法，是指在真空环境下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上面的薄膜制备技术。PVD镀膜技术分为蒸发镀、溅射镀和离子镀三种，都可称之为PVD镀膜。

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