真空镀膜使用是真空使用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及外表处理技能等众多方面有着非常广泛的使用。为了让我们更具体的了解真空镀膜的使用，今天小编具体为大家介绍真空镀膜使用的主要几种办法，希望对大家有用！真空镀膜加工

真空镀膜使用，简单地了解就是在真空环境下，使用蒸镀、溅射以及随后凝聚的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方法，真空镀膜使用属于一种干式镀膜，它的主要办法包含以下几种：

真空蒸镀

其原理是在真空条件下，用蒸腾器加热带蒸腾物质，使其气化或升华，蒸腾离子流直接射向基片，并在基片上堆积分出固态薄膜的技能。

溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激起辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛堆积到基片上构成膜层。

离子镀膜

即干式螺杆真空泵厂家现已介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技能基础上发展而来的，因此兼有两者的工艺特色。在真空条件下，使用气体放电使工作气体或被蒸腾物质（膜材）部别离化，并在离子炮击下，将蒸腾物或其反响物堆积在基片外表。在膜的构成过程中，基片一直遭到高能粒子的炮击，非常清洁。

真空卷绕镀膜

真空卷绕镀膜是一种使用物理气相堆积的办法在柔性基体上连续镀膜的技能，以完成柔性基体的一些功能性、装饰性属性。

上述四种都属于物理气相堆积技能使用（PVD）。

接下来是化学气相堆积（CVD）。它是以化学反响的方法制造薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反响气体通到基片上并被吸附，在基片上发生化学反响构成核，随后反响生成物脱离基片外表不断扩散构成薄膜。

束流堆积镀，结合了离子注入与气相堆积镀膜技能的离子外表复合处理技能，是一种使用离化的粒子作为蒸镀资料，在比较低的基片温度下，构成具有良好特性薄膜的技能。