PVD真空镀膜的工艺流程如下：

1. PVD前清洗：对待镀物进行表面清洁处理，确保表面光洁度和粗糙度符合要求。

2. 进炉抽真空：将待镀物和镀层材料放置在真空室内，进行真空抽气，以将室内气体抽出，降低室内压力，创造真空环境。

3. 洗靶及离子清洗：将所需的镀层材料制成靶材，进行烧结处理，以提高材料的密度和纯度，并保证靶材的稳定性和耐久性。

4. 镀膜：将靶材放置在镀膜设备中，并通过电子束、离子束或热蒸发等方式，将靶材材料转化为气态，形成气体束，沉积在待镀物表面，形成镀层。

5. 镀膜结束，冷却出炉：镀膜完成后，待镀物冷却后出炉。

6. 后处理（抛光、AFP）：根据需要，对镀层进行抛光、AFP等后处理工艺。

需要注意的是，具体的工艺流程可能会根据不同的镀膜材料和待镀物有所不同，因此在实际操作中需要根据具体情况进行调整。