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浅谈pvd镀膜技术的应用领域

时间:2023-09-04    点击数:

随着经济的发展和生活水平的提高,人们喜欢将表壳、表带、服装、灯饰、眼镜、室内外装饰架、五金盒、手机壳、卫生洁具、食品包装等装饰品装饰得五颜六色。在生活中,我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等。其实,这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。下面我们就针对这个技术,让真空镀膜鼎凯电子为你讲解。

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由于钛的广泛应用,钛合金PVD涂层已逐渐成为PVD镀膜领域的常规材料。与不锈钢相比,钛合金PVD镀膜的难点不在涂层本身,而是结合剥离和修复的综合评估。缺陷产品的剥离过程是去除涂层的化学反应过程。由于钛基材的产品价格较高,剥离过程和涂层去除过程的化学反应精度不是关键环节。在控制方面,首先考虑的是钛合金PVD涂层的工艺设计。

镀膜技术是一种环境友好的表面处理方法,可以真正无污染地获得微米级涂层。它可以制备各种单金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN[锆金]、CrN、TiAlN)、碳化物膜(TiC、TiCN)和氧化物膜(如TiO2等)。

时至今日,pvd真空镀膜技术的发展也出现了诸如PCVD(物理化学气相沉积)、MT-CVD(中温化学气相淀积)等新技术,各种镀膜设备和工艺层出不穷。目前比较成熟的PVD方法主要有多弧镀和磁控溅射镀。本实用新型结构简单,操作方便。多弧电镀的缺点是当涂层厚度达到0.3μm时,沉积速率接近反射率,并且在使用传统DC电源作为低温涂层的条件下,成膜变得非常困难。此外,薄膜表面开始变得模糊。多弧电镀的另一个缺点是,由于金属在熔化后被蒸发,沉积的颗粒大,密度低,耐磨性比磁控溅射更差。由此可见,多弧镀膜和磁控溅射镀膜各有优缺点。为了充分发挥各自的优势,实现互补,一种结合多弧技术和磁控管技术的镀膜机应运而生。在该过程中,有一种新的方法,即对背衬进行多弧电镀,然后使用磁控溅射加厚涂层,再使用多弧电镀实现稳定的表面涂层颜色。


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