PVD镀膜，也被称为物理气相沉积镀膜，是一种在真空条件下，利用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。这种技术主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。PVD镀膜的具体原理是在真空环境中，采用低电压、大电流的电弧放电技术，使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，然后在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

PVD镀膜的主要特点包括：

1. 高硬度：PVD镀出的膜层硬度高，具有良好的耐磨性。

2. 耐腐蚀性：PVD镀层具有优异的耐腐蚀性和化学稳定性，可以抵抗多种化学物质的侵蚀。

3. 长寿命：PVD镀层的寿命长，可以长期保持其性能稳定。

4. 装饰性：PVD镀层能够显著提高工件的外观装饰性能，使工件更加美观。

PVD镀膜机，则是指对应于PVD技术的各种镀膜设备，主要包括真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。这些设备在PVD镀膜过程中起着关键的作用，为镀膜过程提供了必要的真空环境和物理条件。

总的来说，PVD镀膜和PVD镀膜机是相辅相成的。PVD镀膜技术提供了高质量的镀膜解决方案，而PVD镀膜机则是实现这种技术的重要工具。两者共同构成了PVD镀膜工艺的核心部分，广泛应用于各种工业领域，如汽车、电子、航空航天等。