真空镀膜与电镀膜相比，具有以下几个显著的优势：

1. 更高的质量：真空镀膜过程中，涂层在基材上的粘附性更高，不存在水分、氧气污染的可能性，并且能够创造出更为均匀的涂层厚度。这种特性使得真空镀膜能够为基材提供更好的保护，并提升产品的精密度和美观度。

2. 更佳的精密度：在真空条件下，材料分子的平均自由程更长，粒子的能量分布更加均匀。这使得真空镀膜能够在更高的精度上达到更好的结果，满足更多精密应用的需求。

3. 更高的效率：真空镀膜工艺更为灵活，可应用于多种材料，包括塑料、陶瓷、半导体等。这种灵活性使得真空镀膜在工业生产中具有更广泛的应用范围，提高了生产效率。

4. 环保性：真空镀膜过程中不产生废液，对环境无污染，符合当前绿色环保的生产要求。

综上所述，真空镀膜在质量、精密度、效率和环保性等方面相比电镀膜具有显著优势。然而，具体选择哪种镀膜技术还需根据实际应用场景和需求进行综合考虑。