PVD镀膜有什么缺陷?怎么解决?
PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜是一种常用的表面处理技术,用于在材料表面形成薄膜。尽管pvd真空镀膜具有很多优点,但也存在一些潜...
2023-07-15 查看详情18913268389汤生
PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜是一种常用的表面处理技术,用于在材料表面形成薄膜。尽管pvd真空镀膜具有很多优点,但也存在一些潜...
2023-07-15 查看详情真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支,它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发,理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所...
2023-07-14 查看详情真空镀膜机是真空环境中应用广泛的真空涂层设备,真空涂层技术是真空应用技术的重要产业,真空涂层技术多样,设备型号不同,真空涂层技术不同,但原理基本相似,如磁控溅射...
2023-07-12 查看详情溅镀,一般指的是磁控溅镀,归入髙速超低温溅镀法. 该专业技能恳求真空值在1×10-3Torr摆弄,即1.3×10-3Pa的真空泵情况充进懒散汽体氩气(Ar),并...
2023-07-10 查看详情物理气相沉积(PVD,Physical Vapor Deposition)和化学电镀是两种常用的涂层技术,它们各自有其优点。相比于化学电镀,上海PVD有以下一些...
2023-07-06 查看详情离子源类型虽多,目的却无非在线清洗,改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度,同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若...
2023-07-05 查看详情189-1326-8389
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