PVD镀膜材料是用于PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）技术制备薄膜材料的物质。PVD技术是一种在真空条件下，采用物理方法将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。

PVD镀膜材料可以根据不同产品类型分为蒸镀材料和溅镀材料。蒸镀材料是通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。溅镀技术则是利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。

PVD镀膜材料可以用于制备各种具有特定功能的薄膜材料，应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。